硒化物靶材
硒化物包括硒化铟，硒化镉，硒化锌，硒化铋，硒化锗，硒化钼等。硒元素沸点只有684.9摄氏度，在生产硒化合物和靶材中，因其他金属元素熔点多高于硒的沸点，以及靶材工艺中的高温热压等工艺下，硒元素极易挥发，为了精确控制硒化合物中的硒含量和化合物性能，是所有生产硒化合物材料企业必须解决的技术难题。中材盛特专业生产高质量的硒化物材料和靶材，主要应用于磁控溅射，半导体掺杂，化学气相沉积（CVD）和物理气相沉积（PVD）显示器和光学应用。 我们的工程师团队的独特协同作能使我们能够生产出行业领先的蒸发材料和靶材。
应用领域
● 硒化物靶材如硒化铟，硒化镉，硒化锌，硒化铋，硒化锗，硒化钼主要用于光电材料的磁控溅射，蒸发镀膜，半导体材料掺杂等。
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●纯度高，可达99.999％，靶材致密度高；
● 质量稳定，表面光滑平整；
● 可以定制不同的尺寸和形状。
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